我們都知道近幾年來(lái)美國(guó)限制了荷蘭對(duì)中國(guó)光刻機(jī)的出口，目前僅有一種光刻機(jī)能出口給中國(guó)，那么是幾納米的呢？我們一起看看吧。

目前asml的官網(wǎng)主要出售的光刻機(jī)有三款型號(hào)，分別是NXT:2050i,NXT:2000i,NXT:1980Di,在這里面目前只有最低端的1980Di允許出售給中國(guó)，1980Di型號(hào)的DUV光刻機(jī)單次曝光精度為38nm，在多次曝光工藝下，能將芯片制程縮小到7nm。但是多次曝光費(fèi)用和技術(shù)也隨之上升，所以雖然我們能買到1980Di，但是想用其生產(chǎn)出7nm的芯片，還是很難。

臺(tái)積電曾經(jīng)用這種光刻機(jī)量產(chǎn)了7nm的芯片，目前以我們的水平，想通過(guò)這個(gè)光刻機(jī)量產(chǎn)7nm的芯片還是比較困難。我國(guó)目前能量產(chǎn)的光刻機(jī)是上海微電子的光刻機(jī)，28nm的光刻機(jī)也出來(lái)了，只是還沒(méi)能達(dá)到量產(chǎn)的水平。

asml向中國(guó)出售光刻機(jī)是幾納米的？相信大家也知道答案是38nm了，但是這個(gè)數(shù)字并不能代表光刻機(jī)的最終性能水平，畢竟光刻機(jī)的性能除了分辨率還包括曝光速度、穩(wěn)定性、精度等多個(gè)方面。而且即便是最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，也只能制造出5納米級(jí)別的芯片，距離3納米的制程還有一段距離。不過(guò)，我們相信在中國(guó)科技人員的不懈努力下，未來(lái)一定能夠生產(chǎn)出更加先進(jìn)的光刻機(jī)，推動(dòng)我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，讓我們期待更美好的未來(lái)！