中端國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的誕生標(biāo)志著中國(guó)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要進(jìn)展。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備，用于將芯片的電路圖案投射到硅片上。傳統(tǒng)上，全球主要的光刻機(jī)供應(yīng)商都集中在美國(guó)、歐洲和日本等發(fā)達(dá)國(guó)家，中國(guó)一直依賴進(jìn)口光刻機(jī)來(lái)滿足國(guó)內(nèi)芯片制造需求。然而，隨著中國(guó)對(duì)半導(dǎo)體自給自足的追求和技術(shù)實(shí)力的提升，中國(guó)開(kāi)始投入大量資源和努力來(lái)發(fā)展自己的光刻機(jī)制造能力。

中端國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)誕生主要是上海微電子的90nm光刻機(jī)，90nm光刻機(jī)經(jīng)過(guò)兩次曝光,可以制成45nm的芯片,三次曝光后可以制成22nm的芯片。當(dāng)然，隨著曝光次數(shù)越多，良品率會(huì)越來(lái)越低，因此此光刻機(jī)主要集中在中端領(lǐng)域，此光刻機(jī)在2007年就研發(fā)出來(lái)了，但是到了2018年才實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，可見(jiàn)光刻機(jī)每一步都很艱難，截止至目前，我國(guó)量產(chǎn)的光刻機(jī)仍然停留在90nm。

很多人說(shuō)要彎道超車(chē)，但是在光刻機(jī)這種技術(shù)非常復(fù)雜的設(shè)備上，我們也只能一步一步來(lái)，希望中國(guó)有朝一日也能量產(chǎn)出7nm的EUV光刻機(jī)。