我們知道光刻機(jī)非常難造，比原子彈還難百倍，畢竟要在一個(gè)指甲蓋上雕刻出一座城市，難度無(wú)法想象，而我國(guó)的光刻機(jī)一直都靠進(jìn)口荷蘭asml的光刻機(jī)，近年來(lái)被美國(guó)、荷蘭、日本聯(lián)合制裁后，我國(guó)買(mǎi)不到最新的EUV光刻機(jī)，這也讓我國(guó)只能被迫加快國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。

我國(guó)的光刻機(jī)到哪個(gè)水平了呢？
目前我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)先的企業(yè)是上海微電子，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了90nm光刻機(jī)的量產(chǎn)，經(jīng)過(guò)曝光后可以生產(chǎn)五六十納米的芯片。多次曝光后可以生產(chǎn)更低制程的芯片，然而良品率也會(huì)大大降低，因此需要更低制程的光刻機(jī)。

中國(guó)光刻機(jī)新突破
上海微電子近年來(lái)一直在攻克28nm的光刻機(jī)，網(wǎng)上也出現(xiàn)不少好消息，畢竟90nm的量產(chǎn)以及是5年前的事，而28nm上海微電子也研究很多年了，相信離量產(chǎn)也不遠(yuǎn)了。

壞消息是美國(guó)、荷蘭、日本聯(lián)合一起限制半導(dǎo)體設(shè)備出口，意味著我國(guó)芯片行業(yè)很多設(shè)備也買(mǎi)不到了，這就需要我們自己造了。中國(guó)光刻機(jī)28nm還要多久？我們一起拭目以待吧。