EUV光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，它使用極紫外光技術(shù)進(jìn)行微細(xì)加工，能夠?qū)崿F(xiàn)芯片制造的高精度和高速度。然而，全球EUV光刻機(jī)市場(chǎng)一直被荷蘭ASML公司壟斷，而中國(guó)EUV光刻機(jī)如何則備受關(guān)注。

網(wǎng)上有網(wǎng)友提問(wèn)：中國(guó)唯一一臺(tái)euv光刻機(jī)現(xiàn)狀如何？然而真相是我國(guó)目前連一臺(tái)euv光刻機(jī)都沒(méi)有，即使是圖紙也沒(méi)有。目前，ASML公司所在的荷蘭政府以及美國(guó)政府均在對(duì)EUV光刻機(jī)的出口進(jìn)行嚴(yán)格的管制，而EUV光刻機(jī)是制造芯片的必要設(shè)備之一，中國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將會(huì)面臨供應(yīng)鏈斷裂的風(fēng)險(xiǎn)。

面對(duì)這一局面，中國(guó)政府已經(jīng)出臺(tái)了一系列的政策，支持國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。中國(guó)正在積極推進(jìn)自主創(chuàng)新，加大投入力度，建設(shè)自主可控的芯片生態(tài)系統(tǒng)。目前，中國(guó)的一些芯片制造企業(yè)也在積極研發(fā)EUV光刻機(jī)，以期實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化。

造光刻機(jī)的難度是造原子彈的百倍，目前中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域也是缺少大量經(jīng)驗(yàn)，包括ASML的上千個(gè)零件供應(yīng)商，也被美國(guó)限制向中國(guó)出口，所以我們要找出euv光刻機(jī)，必須要掌握ASML的技術(shù)，還要掌握其上千家供應(yīng)商的技術(shù)，從這個(gè)角度來(lái)看，目前中國(guó)想造出euv光刻機(jī)是非常困難的。

中國(guó)唯一一臺(tái)euv光刻機(jī)現(xiàn)狀相信你也清楚了，希望中國(guó)能加快光刻機(jī)的制造進(jìn)度，我國(guó)的才不會(huì)被美國(guó)卡脖子。